art photonics中紅外硫化物玻璃光纖（CIR）以硫化砷為基底材料，適用于1.1~6.5μm的光纖傳輸。CIR彌補(bǔ)了石英光纖（0.2~2.4μm）與銀化物光纖（PIR）之間的空隙。CIR光纖有雙層聚合物涂層的纖芯/包層結(jié)構(gòu)，能降低光學(xué)損耗，提高彈性。 所有的標(biāo)準(zhǔn)光纖都包括PEEK-聚…
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art photonics中紅外硫化物玻璃光纖（CIR）以硫化砷為基底材料，適用于1.1~6.5μm的光纖傳輸。CIR彌補(bǔ)了石英光纖（0.2~2.4μm）與銀化物光纖（PIR）之間的空隙。CIR光纖有雙層聚合物涂層的纖芯/包層結(jié)構(gòu)，能降低光學(xué)損耗，提高彈性。 所有的標(biāo)準(zhǔn)光纖都包括PEEK-聚…