電子束光刻系統(tǒng)（Electron Beam Lithography）

Nanoplus采用最新的100 KeV 電子束光刻系統(tǒng)，塑造單模激光器的DFB激光器。

側(cè)面金屬光柵技術(shù)（Lateral Metal-Grating）

Nanoplus采用獨(dú)一無二的專利技術(shù)——側(cè)面金屬光柵（Lateral Metal-Grating），它的優(yōu)勢(shì)在于既能保證非常高的SMSR和光譜純度，又能通過光柵周期選擇任意中心波長在760nm到3500nm之間的DFB激光器。

Nanoplus DFB激光器設(shè)計(jì)原理：

DFB激光器采用側(cè)面金屬光柵技術(shù)：